EUV-литография

Фотолитография, при которой рисунок микросхемы переносят на кремниевую пластину излучением экстремального ультрафиолета с длиной волны 13,5 нм (extreme ultraviolet lithography, EUV). Позволяет получать элементы мельче, чем литография в глубоком ультрафиолете (DUV), поэтому без неё не обходится выпуск чипов по самым передовым техпроцессам. Такое излучение поглощается почти любым веществом, поэтому в установках используют зеркальную оптику, а процесс идёт в вакууме.

проверено по: ru.wikipedia.org ↗